德國HEIDELBERG, DWL66+激光直寫
主要規(guī)格及技術(shù)指標(biāo)
直寫、制版
樣品尺寸：2英寸~7英寸；邊長50px以上小片
工作波長：405nm
最小特征尺寸：0.6μm
配0.6μm、1μm、2μm模塊
線寬均勻性： 60nm @3σ
套刻對準(zhǔn)精度：0.1μm @0.6μm模塊
直寫速度：
6mm2/minute @0.6μm模塊
150mm2/minute @1μm模塊
600mm2/minute @2μm模塊
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